Plazma poboljšana tankoslojna oprema

Oprema tankog filma poboljšana plazmom je tehnologija čistog jonskog premaza (čisti jonski snop), visoko-tehnologija čišćenja ionskim snopom (Ionbeam), tehnologija magnetnog raspršivanja (Sputter) i taloženje pare magnetnog zadržavanja (magnetno zadržavanje-CVD) što je četiri tehnologije savršene CVD tehnologije u jednoj, i PVD fusion tehnologije.

Plazma poboljšana tankoslojna oprema pruža fleksibilniju kombinaciju procesa kako bi se zadovoljile različite složene potrebe proizvoda, a njen moćni hibridni proces pruža više mogućnosti za dizajnere procesa.

Plazma poboljšana tankoslojna oprema ukratko predstavljanje funkcija opreme:

(1) Izvor prevlake čistog jona, koristeći efikasan sistem elektromagnetne filtracije, efikasno uklanja čestice, dobija snop jona veće čistoće, pomaže u poboljšanju tvrdoće premaza i sile vezivanja;

(2) Visokoenergetski izvor čišćenja jonskim snopom, koristeći posebno dizajniranu strukturu pražnjenja, efikasno kompatibilan sa aktivacijom čišćenja plazmom, pomoćnom jonizacijom, nezavisnim taloženjem i drugim funkcijama;

(3) Magnetronski izvor raspršivanja, koristeći inovativni dizajn magnetnog polja, efektivno poboljšava ciljnu stopu iskorištenja za više od 30%;

(4) Magnetski ograničen izvor taloženja pare, pouzdana struktura koja se lako održava, može postići brzo i fino taloženje premaza.

Tipične vrste premaza:

(1) Me-TAC, metalni TAC kompozitni premaz, široko korišten

(2) Me-DLC, metalni DLC kompozitni premaz, široko korišten

(3) Me-TAC-DLC, TAC-DLC kompozitni premazi, dok dobijaju veću osnovnu tvrdoću i silu vezivanja TAC-a, imaju stopu taloženja i fini izgled DLC-a.

express Plasma poboljšana tankoslojna oprema može ostvariti kombinaciju TAC-DLC-a, što uvelike poboljšava silu vezivanja u poređenju sa jednostavnim CVD, dok smanjuje veličinu čestica PVD-a i skraćuje vrijeme procesa.

express Plazma poboljšana tankoslojna oprema može postići različite procese taloženja C filma, TAC prevlake čistih jona, DLC magnetnog zatvaranja, DLC oblaganja izvora jona u anodnom sloju itd.

express Plasma poboljšana tankoslojna oprema opremljena je uređajem za elektromagnetsko skeniranje i softverom, koji može kontrolirati smjer snopa plazme u fiksnoj tački i vremenu, uvelike poboljšavajući problem ujednačenosti premaza, a uniformnost cijelog sloja filma peći se kontrolira ispod ±5%;》Optimizovan dizajn magnetnog polja i dizajn hlađenja, lako održavanje, dobra stabilnost opreme;

ekspresno prijateljski{0}}mašinski interfejs,-snimanje procesnih podataka u realnom vremenu, pogodno za kontrolu kvaliteta, teška analiza, razvoj novih procesa;

express Ovaj projekat je oprema po principu ključ u ruke, kompanija Pure Source obezbeđuje kompletno rešenje, uključujući stabilnu formulu zrelog premaza.